Luận văn Thạc sĩ Khoa học: Tách và xác định các nguyên tố đất hiếm trong lớp phủ bằng phương pháp sắc ký điện di mao quản (CEC)

Tách và Xác định các Nguyên tố Đất hiếm trong Lớp phủ bằng Phương pháp Sắc ký Điện di Mao quản (CEC)

Tác giả: ĐÀO ĐỨC HẢO

Lĩnh vực: Hóa Phân Tích

Nội dung tài liệu:

Luận văn thạc sĩ khoa học này tập trung nghiên cứu về phương pháp tách và xác định các nguyên tố đất hiếm (NTĐH) trong lớp phủ. Nghiên cứu đề cập đến tầm quan trọng của các NTĐH trong nhiều ngành công nghệ cao và tiềm năng tài nguyên tại Việt Nam. Luận văn giới thiệu tổng quan về các NTĐH, các hợp chất phức của chúng, cũng như các biện pháp bảo vệ chống ăn mòn kim loại. Đặc biệt, công trình tập trung vào phương pháp photphat hóa bề mặt để tăng cường khả năng bảo vệ kim loại, và vai trò của phụ gia NTĐH trong quá trình này. Cuối cùng, luận văn trình bày chi tiết về các phương pháp tách và xác định NTĐH, với trọng tâm là phương pháp sắc ký điện di mao quản (CEC).

Mục lục chi tiết:

• MỞ ĐẦU
• CHƯƠNG 1: TỔNG QUAN
• 1.1 Các nguyên tố đất hiếm.
• 1.1.1. Đặc điểm chung về các NTĐH.
• 1.1.11. Ba hướng ứng dụng đất hiếm.
• 1.1.1.2. Nguồn tài nguyên đất hiếm Việt Nam.
• 1.2. Hợp chất phức của các nguyên tố đất hiếm trong dung dịch.
• 1.3. Các biện pháp bảo vệ chống ăn mòn kim loại [15].
• 1.4. Giới thiệu về phương pháp photphat hoá.
• 1.4.1. Tình hình nghiên cứu lớp phủ bảo vệ kim loại [3].
• 1.4.1.1. Nghiên cứu ở nước ngoài.
• 1.4.1.2. Nghiên cứu trong nước.
• 1.4.2. Công nghệ photphat hoá [14].
• 1.4.2.1. Đặc điểm của công nghệ photphat hoá.
• 1.4.2.2. Tạo màng Photphat hoá.
• 1.5. Tổng quan về các phương pháp tách và xác định các nguyên tô đất hiếm.
• 1.6. Các phương pháp xác định các nguyên tố đất hiếm.
• 1.6.1. Phương pháp quang phổ hấp thụ phân tử.
• 1.6.2. Phương pháp kích hoạt nơtron.
• 1.6.3. Phương pháp quang phổ phát xạ nguyên tử{16,17,18}.
• 1.6.4. Phương pháp phổ khối plasma cảm ứng ICP-MS [5, 19].
• 1.6.5. Phương pháp sắc ký.
• 1.6..5.1. Phương pháp sắc ký lỏng hiệu năng cao.
• 1.6.5.2. Phương pháp sắc ký điện di mao quản hiệu năng cao (HPCEC).
• CHƯƠNG 2 ĐỐI TƯỢNG VÀ NỘI DUNG NGHIÊN CỨU.
• 2.1. Đối tượng và nội dung nghiên cứu.
• 2.1.1. Đối tượng.
• 2.1.2. Nội dung nghiên cứu.
• 2.2. Phương pháp nghiên cứu.
• 2.2.1. Đại cương về sắc ký điện di mao quản (CEC){3}.
• A. Lịch sử và phát triển.
• B. Cơ sở lý thuyết.
• 1. Nguyên tắc.
• 2. Sự điện di và sắc ký điện di mao quản hiệu suất cao.
• 2.1. Dung dịch đệm pH và chất điện giải.
• 2.2. Dòng điện di thẩm thấu (EOF).
• 2.3. Chế tạo lớp phủ photphat hoá.
• A. Nguyên lý tạo lớp phủ photphat.
• B. Chế tạo dung dịch.
• C. Chế tạo lớp phủ.
• 1. Phủ nguội.
• 2. Mạ.
• 2.4. Nghiên cứu khả năng loại trừ các yếu tố ảnh hưởng (Loại trừ ảnh hưởng của Sắt).
• 2.4.1. Phương pháp trao đổi ion:
• 2.4.2. Phương pháp chiết.
• 2.5 Thiết bị và hoá chất.
• 2.5.1 Thiết bị.
• 2.5.2 Hoá chất.
• CHƯƠNG 3 KẾT QUẢ VÀ THẢO LUẬN.
• 3.1 Khảo sát ảnh hưởng của dung dịch đệm điện di.
• 3.1.1. Khảo sát ảnh hưởng của pH dung dịch đệm điện di đến quá trình tách các NTĐH.
• 3.1.2. Ảnh hưởng của nồng độ các chất điện ly trong dung dịch đệm.
• 3.1.3. Ảnh hưởng của nồng độ HIBA.
• 3.2. Khảo sát ảnh hưởng của một số nguyên tố trong quá trình tách và xác định các nguyên tố đất hiếm.
• 3.2.1. Ảnh hưởng của Mangan
• 3.2.2. Ảnh hưởng của Niken.
• 3.2.3. Ảnh hưởng của Kẽm.
• 3.2.4. Ảnh hưởng của Đồng.
• 3.2.5. Ảnh hưởng của PO43-.
• 3.2.6. Ảnh hưởng của Sắt.
• 3.3. Đánh giá chung về phép đo CE.
• 3.3.1. Khoảng tuyến tính.
• 3.3.2. Giới hạn định tính (LOD) và giới hạn định lượng (LOQ).
• 3.3.3. Độ thu hồi và độ lặp lại.
• 3.4 Xây dựng đường chuẩn của các nguyên tố đất hiếm.
• 3.5 Phân tích mẫu lớp phủ photphat bằng phương pháp đường chuẩn.
• 3.5.1. Pha chế dung dịch và chế tạo lớp phủ có thành phần phụ gia Đồng, Niken, Xeri.
• 3.5.2. Pha chế các dung dịch.
• 3.5.3. Chế tạo lớp phủ.
• 3.5.4. Phá mẫu.
• 3.6 PHÂN TÍCH MẪU LỚP MẠ Zn-Ni-NTĐH.
• 3.6.1. Chế tạo lớp mạ.
• 3.6.2. Kết quả tách pic và thành phần các NTĐH trong mẫu lớp mạ Zn-Ni-NTĐH.
• KẾT LUẬN.
• TÀI LIỆU THAM KHẢO.